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Agente di pulizia per semiconduttori HFO-1233zd(Z) - pulizia di precisione di livello semiconduttore, sostenibile e conforme alle normative HCFC-141B Sostituzione per la pulizia industriale versatile

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Prodotti chimici elettronici del grado

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Agente di pulizia per semiconduttori HFO-1233zd(Z) - pulizia di precisione di livello semiconduttore, sostenibile e conforme alle normative HCFC-141B Sostituzione per la pulizia industriale versatile

Marchio:	Chemfine
Numero di modello:	HFO-1233zd
MOQ:	1000 kg
Condizioni di pagamento:	L/C,T/T

Informazione dettagliata

Descrizione di prodotto

Informazione dettagliata

Luogo di origine:

Evidenziare:

Pulizia di precisione per semiconduttori HFO-1233zd(Z)

Sostituzione HCFC-141B sostenibile e conforme alle normative

Soluzione di pulizia industriale versatile Agente di pulizia semiconduttore

Descrizione di prodotto

Sostituzione Agente di Pulizia Semiconduttori

Sostituzione HCFC-141B HFO-1233zd HFO-1336mz FS-39 HCFC Cas 99728-16-2

Punti di Forza del Prodotto

Sostituzione Ideale per HCFC-141B: Il nostro HFO-1233zd(Z) offre prestazioni di pulizia equivalenti a HCFC-141B con un profilo ambientale superiore, rendendolo la sostituzione drop-in perfetta per i processi di pulizia esistenti.
Pulizia di Precisione di Grado Semiconduttore: Con purezza ultra-elevata e livelli di impurità controllati, il nostro CAS 99728-16-2 è appositamente progettato per la pulizia di wafer semiconduttori, la rimozione di fotoresist e la pulizia di componenti elettronici di precisione.
Sostenibile e Conforme alle Normative: Potenziale di riduzione dell'ozono nullo e potenziale di riscaldamento globale ultra-basso, pienamente conforme al Protocollo di Montreal, ai regolamenti EU F-Gas e al programma SNAP dell'EPA statunitense.
Soluzione Versatile per la Pulizia Industriale: Adatto per una vasta gamma di applicazioni, tra cui sgrassaggio metalli, pulizia componenti aerospaziali, sgrassaggio a vapore e sistemi di pulizia a base solvente.
Sicuro e Facile da Maneggiare: Non infiammabile, bassa tossicità, compatibile con la maggior parte dei materiali comuni utilizzati nelle attrezzature di pulizia industriale, riducendo i rischi operativi e semplificando l'integrazione del processo.

Introduzione al Prodotto

HFO-1233zd(Z), noto anche come Cis-1-cloro-3,3,3-trifluoropropene, è identificato dal numero CAS 99728-16-2. È un solvente idrofluoroolefina (HFO) di nuova generazione ed ecologico, appositamente sviluppato come sostituto ad alte prestazioni per HCFC-141B, HFO-1336mz, FS-39 e altri HCFC che riducono lo strato di ozono e solventi fluorurati ad alto GWP.

Con potenziale di riduzione dell'ozono (ODP) nullo, potenziale di riscaldamento globale (GWP) ultra-basso ed eccellente potere solvente, HFO-1233zd(Z) è diventato l'agente di pulizia preferito per l'industria della produzione di semiconduttori ed elettronica. È ampiamente utilizzato nella pulizia di precisione, nello sgrassaggio a vapore, nella rimozione di residui di fotoresist e in altri processi di pulizia industriale critici, offrendo prestazioni di pulizia affidabili e aiutando i produttori a rispettare le normative ambientali globali.

Applicazioni Dettagliate

Produzione Semiconduttori ed Elettronica

Uso primario per la pulizia di precisione di wafer semiconduttori, rimozione di residui di fotoresist, contaminanti organici e particelle fini da wafer e componenti elettronici; ideale per processi di pulizia di grado camera bianca.

Sgrassaggio a Vapore Industriale

Utilizzato in sistemi di sgrassaggio a vapore per componenti metallici, plastici e ceramici, rimuovendo efficacemente oli, grassi, residui di flussante e fluidi di lavorazione.

Aerospaziale e Ingegneria di Precisione

Per la pulizia di componenti aerospaziali ad alta precisione, parti ottiche e dispositivi medici, garantendo zero residui e elevati standard di pulizia.

Ausiliario per Refrigerazione e Espansione Schiume

Utilizzato anche come agente espandente a basso GWP per schiume poliuretaniche e come componente in miscele refrigeranti a basso GWP.

Pulizia Industriale Generale

Adatto per sgrassaggio pesante, pulizia di circuiti stampati e altre applicazioni di pulizia industriale che richiedono elevata solvibilità e conformità ambientale.

Proprietà Fisiche di Base

Proprietà	Valore/Descrizione
Numero CAS	99728-16-2
Nome Chimico	Cis-1-cloro-3,3,3-trifluoropropene (HFO-1233zd(Z))
Formula Molecolare	(Z)-CF3CH=CHCl
Peso Molecolare	130,5 g/mol
Punto di Ebollizione (1 atm)	39,0 °C
Punto di Fusione	-101,0 °C
Densità Liquida (20°C, 760 mmHg)	1,312±0,06 g/cm³
Viscosità a 25°C	0,37 mPa·s
Pressione di Vapore a 20°C	49 kPa
Solubilità in Acqua	950 ppm
Punto di Infiammabilità	Nessuno
Valore KB	34

Specifiche Tecniche

ARTICOLO	SPECIFICA	RISULTATO STANDARD
Purezza (in peso %)	≥99,8	≥99,8
Umidità (in peso %)	≤0,002	≤0,002
Acidità (come HCl, in peso %)	≤0,0001	≤0,0001
Residuo di Evaporazione (in peso %)	≤0,01	≤0,01
Test Cloruri	Superato	Superato

Applicazioni Specializzate

Pulizia Wafer Semiconduttori

Il nostro HFO-1233zd(Z) è formulato appositamente per i rigorosi requisiti della produzione di semiconduttori, rimuovendo efficacemente residui di fotoresist, contaminanti organici e particelle sub-micron dai wafer di silicio senza danneggiare le delicate strutture dei wafer. La sua purezza ultra-elevata garantisce zero contaminazione, rendendolo ideale per la produzione di semiconduttori di nodi avanzati.

Sgrassaggio a Vapore di Precisione

Con un punto di ebollizione adeguato e un'eccellente solvibilità, HFO-1233zd(Z) è perfetto per i sistemi di sgrassaggio a vapore, offrendo una pulizia rapida e priva di residui per componenti metallici, plastici e ceramici nei settori automobilistico, aerospaziale ed elettronico. La sua natura non infiammabile garantisce un funzionamento sicuro in apparecchiature di sgrassaggio ad alta temperatura.

Sostituzione HCFC-141B e Solventi ad Alto GWP

Come sostituto drop-in per HCFC-141B, HFO-1336mz, FS-39 e altri solventi fluorurati ad alto GWP, il nostro HFO-1233zd(Z) mantiene prestazioni di pulizia equivalenti eliminando il rischio di riduzione dell'ozono e riducendo l'impronta di carbonio, aiutando i produttori a passare agevolmente a processi di pulizia conformi alle normative ambientali senza costose modifiche alle attrezzature.

Imballaggio e Logistica

Imballaggio Standard: Fusti in acciaio approvati UN da 25 kg, fusti in acciaio da 250 kg o serbatoi IBC da 1000 kg.

Stoccaggio: Conservare in un magazzino fresco, asciutto e ben ventilato. Tenere lontano dalla luce solare diretta, da fonti di calore e da materiali incompatibili.

Classe di Sicurezza: Sostanza chimica non infiammabile, a bassa tossicità, conforme alle normative internazionali sul trasporto di merci pericolose.

Sinonimi

Cis-1-cloro-3,3,3-trifluoropropene; HFO-1233zd(Z); HFO-1233zd; Z-HFO-1233zd; Sostituto HCFC-141B; CAS 99728-16-2

Domande Frequenti

D: HFO-1233zd(Z) è una sostituzione diretta drop-in per HCFC-141B?

R: Sì, HFO-1233zd(Z) ha una solvibilità, un punto di ebollizione e una compatibilità con i materiali simili a HCFC-141B, rendendolo una sostituzione quasi drop-in per la maggior parte dei processi di pulizia e sgrassaggio esistenti, con modifiche minime o nulle alle attrezzature richieste.

D: Qual è il profilo ambientale di HFO-1233zd(Z)?

R: HFO-1233zd(Z) ha un potenziale di riduzione dell'ozono (ODP) nullo e un potenziale di riscaldamento globale (GWP) ultra-basso inferiore a 1, rendendolo pienamente conforme al Protocollo di Montreal, ai regolamenti EU F-Gas e al programma SNAP dell'EPA statunitense per l'uso come solvente di pulizia.

D: HFO-1233zd(Z) è infiammabile?

R: No, HFO-1233zd(Z) non ha punto di infiammabilità, il che lo rende non infiammabile in condizioni operative normali, riducendo significativamente i rischi di incendio negli impianti di pulizia e produzione industriale.

D: Quali gradi di purezza di HFO-1233zd(Z) offrite?

R: Offriamo HFO-1233zd(Z) di grado industriale standard (purezza ≥99,5%) e di grado elettronico/semiconduttore (purezza ≥99,8%), con un rigoroso controllo di umidità, acidità e impurità residue per soddisfare le esigenze di diverse applicazioni.

Etichette:

4746-97-8

2 4 6-Tri- (6-aminocaproic acido) - 1 triazine 3 5

modificatore della pittura di cas 80584-91-4

Dettagli dei prodotti

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Prodotti chimici elettronici del grado

Agente di pulizia per semiconduttori HFO-1233zd(Z) - pulizia di precisione di livello semiconduttore, sostenibile e conforme alle normative HCFC-141B Sostituzione per la pulizia industriale versatile

Tutte le categorie

Solventi di chimica organica

Additivi ricoprenti

Prodotti chimici elettronici del grado

Photoinitiator UV

Glicol del polipropilene di PPG

Mediatori farmaceutici

Amina del polietere

Prodotti chimici cosmetici

Pigmento chimico

Colorante chimico

Additivi alimentari

Mediatori agrochimici

Prodotti chimici ricoprenti di carta

Prodotto chimico vario

Agente di pulizia per semiconduttori HFO-1233zd(Z) - pulizia di precisione di livello semiconduttore, sostenibile e conforme alle normative HCFC-141B Sostituzione per la pulizia industriale versatile

Marchio:	Chemfine
Numero di modello:	HFO-1233zd
MOQ:	1000 kg
Condizioni di pagamento:	L/C,T/T

Informazione dettagliata

Descrizione di prodotto

Informazione dettagliata

Luogo di origine:

Cina

Marca:

Chemfine

Numero di modello:

HFO-1233zd

Quantità di ordine minimo:

1000 kg

Termini di pagamento:

L/C,T/T

Evidenziare:

Pulizia di precisione per semiconduttori HFO-1233zd(Z)

Sostituzione HCFC-141B sostenibile e conforme alle normative

Soluzione di pulizia industriale versatile Agente di pulizia semiconduttore

Descrizione di prodotto

Sostituzione Agente di Pulizia Semiconduttori

Sostituzione HCFC-141B HFO-1233zd HFO-1336mz FS-39 HCFC Cas 99728-16-2

Punti di Forza del Prodotto

Sostituzione Ideale per HCFC-141B: Il nostro HFO-1233zd(Z) offre prestazioni di pulizia equivalenti a HCFC-141B con un profilo ambientale superiore, rendendolo la sostituzione drop-in perfetta per i processi di pulizia esistenti.
Pulizia di Precisione di Grado Semiconduttore: Con purezza ultra-elevata e livelli di impurità controllati, il nostro CAS 99728-16-2 è appositamente progettato per la pulizia di wafer semiconduttori, la rimozione di fotoresist e la pulizia di componenti elettronici di precisione.
Sostenibile e Conforme alle Normative: Potenziale di riduzione dell'ozono nullo e potenziale di riscaldamento globale ultra-basso, pienamente conforme al Protocollo di Montreal, ai regolamenti EU F-Gas e al programma SNAP dell'EPA statunitense.
Soluzione Versatile per la Pulizia Industriale: Adatto per una vasta gamma di applicazioni, tra cui sgrassaggio metalli, pulizia componenti aerospaziali, sgrassaggio a vapore e sistemi di pulizia a base solvente.
Sicuro e Facile da Maneggiare: Non infiammabile, bassa tossicità, compatibile con la maggior parte dei materiali comuni utilizzati nelle attrezzature di pulizia industriale, riducendo i rischi operativi e semplificando l'integrazione del processo.

Introduzione al Prodotto

Applicazioni Dettagliate

Produzione Semiconduttori ed Elettronica

Sgrassaggio a Vapore Industriale

Utilizzato in sistemi di sgrassaggio a vapore per componenti metallici, plastici e ceramici, rimuovendo efficacemente oli, grassi, residui di flussante e fluidi di lavorazione.

Aerospaziale e Ingegneria di Precisione

Per la pulizia di componenti aerospaziali ad alta precisione, parti ottiche e dispositivi medici, garantendo zero residui e elevati standard di pulizia.

Ausiliario per Refrigerazione e Espansione Schiume

Utilizzato anche come agente espandente a basso GWP per schiume poliuretaniche e come componente in miscele refrigeranti a basso GWP.

Pulizia Industriale Generale

Adatto per sgrassaggio pesante, pulizia di circuiti stampati e altre applicazioni di pulizia industriale che richiedono elevata solvibilità e conformità ambientale.

Proprietà Fisiche di Base

Proprietà	Valore/Descrizione
Numero CAS	99728-16-2
Nome Chimico	Cis-1-cloro-3,3,3-trifluoropropene (HFO-1233zd(Z))
Formula Molecolare	(Z)-CF3CH=CHCl
Peso Molecolare	130,5 g/mol
Punto di Ebollizione (1 atm)	39,0 °C
Punto di Fusione	-101,0 °C
Densità Liquida (20°C, 760 mmHg)	1,312±0,06 g/cm³
Viscosità a 25°C	0,37 mPa·s
Pressione di Vapore a 20°C	49 kPa
Solubilità in Acqua	950 ppm
Punto di Infiammabilità	Nessuno
Valore KB	34

Specifiche Tecniche

ARTICOLO	SPECIFICA	RISULTATO STANDARD
Purezza (in peso %)	≥99,8	≥99,8
Umidità (in peso %)	≤0,002	≤0,002
Acidità (come HCl, in peso %)	≤0,0001	≤0,0001
Residuo di Evaporazione (in peso %)	≤0,01	≤0,01
Test Cloruri	Superato	Superato

Applicazioni Specializzate

Pulizia Wafer Semiconduttori

Sgrassaggio a Vapore di Precisione

Sostituzione HCFC-141B e Solventi ad Alto GWP

Imballaggio e Logistica

Imballaggio Standard: Fusti in acciaio approvati UN da 25 kg, fusti in acciaio da 250 kg o serbatoi IBC da 1000 kg.

Stoccaggio: Conservare in un magazzino fresco, asciutto e ben ventilato. Tenere lontano dalla luce solare diretta, da fonti di calore e da materiali incompatibili.

Classe di Sicurezza: Sostanza chimica non infiammabile, a bassa tossicità, conforme alle normative internazionali sul trasporto di merci pericolose.

Sinonimi

Cis-1-cloro-3,3,3-trifluoropropene; HFO-1233zd(Z); HFO-1233zd; Z-HFO-1233zd; Sostituto HCFC-141B; CAS 99728-16-2

Domande Frequenti

D: HFO-1233zd(Z) è una sostituzione diretta drop-in per HCFC-141B?

D: Qual è il profilo ambientale di HFO-1233zd(Z)?

D: HFO-1233zd(Z) è infiammabile?

D: Quali gradi di purezza di HFO-1233zd(Z) offrite?

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